Das Gerät stellt fest, wann ein Halbleiter-Produktionsprozess einschließlich Kammerreinigung beendet ist. Dadurch kann die benötigte Reinigungszeit laut Anbieter um bis zu 80 % verkürzt werden.
Aston widersteht korrosiven Gasen und der Kontamination durch gasförmige Kondensate. Die Plattform verfügt über zwei voneinander getrennte Ionenquellen – eine klassische EI-Ionenquelle und eine Plasmaquelle ohne Filament, die unter anspruchsvollen Bedingungen der Halbleiterproduktion zuverlässig funktionieren. Dadurch kann das Gerät für die In-Situ-Messung in anspruchsvollen Umgebungen eingesetzt werden, wo herkömmliche EI-Ionenquellen korrodieren würden.
Da die Plattform selbst Plasma erzeugt, funktioniert sie mit oder ohne vorhandenem Plasma. Im Betrieb werden quantifizierte, praktisch verwertbare Echtzeitdaten genutzt, die maschinelles Lernen auf Basis von Künstlicher Intelligenz (KI) ermöglichen. Das Spektrometer kann bei der Montage neuer Prozesskammern installiert oder nachträglich an bestehende und bereits betriebene Kammern angebracht werden.
